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J-GLOBAL ID：200903012383200834

SiO▲下2▼薄膜、それを作製する方法およびその使用

Inventor： シュミット ヘルムート ,  メニッヒ マルティン ,  ヨンシュカー ゲルハルト ,  スヤール ナヴィン
Applicant, Patent owner： インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク
Agent (1)： 三枝 英二 (外10名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997512383
Publication number (International publication number)：1999514960
Application date： Sep. 17, 1996
Publication date： Dec. 21, 1999
Summary：

【要約】SiO2薄膜が、a)一般式(I)Rx-Si-A4-xを有する1種以上のシランを40〜100重量%[式中、基Aは、同一または異なって、ヒドロキシル基または加水分解で除去可能な基を示し、基Rは、同一または異なって、加水分解で除去できない基を示し、xは、0、1、2または3を示し、ただし該シランの少なくとも70モル%はx≧1である]を、必要に応じて、b)コロイドSiO2を0〜50重量%および/またはc)有機結合剤を0〜10重量%の存在下に、加水分解および縮合して得られ得る。このようにして得られた粘性ゾルはゲル膜に加工され、該ゲル膜は熱処理される。

Claim (excerpt)：

a)一般式(I)を有する1種以上のシランを40〜100重量% Rx-Si-A4-x (I)[式中、基Aは、同一または異なって、ヒドロキシル基または加水分解で除去可能な基を示し、基Rは、同一または異なって、加水分解で除去できない基を示し、xは、0、1、2または3を示す、ただし該シランの少なくとも70モル%はx≧1である]を、必要に応じてb)コロイドSiO2を0〜50重量% および/またはc)有機結合剤を0〜10重量% の存在下に加水分解および縮合し、得られた粘性ゾルをゲル膜に加工し該ゲル膜を熱処理する、 ことを特徴とするSiO2薄膜の作製方法。

IPC (2)：

C03B 8/02 ,  C03B 19/12

FI (2)：

C03B 8/02 B ,  C03B 19/12 A