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J-GLOBAL ID:200903012383936253

水蒸気プラズマによる排ガス処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岸本 瑛之助 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993138085
Publication number (International publication number):1994343820
Application date: Jun. 10, 1993
Publication date: Dec. 20, 1994
Summary:
【要約】【構成】 水蒸気単体あるいは水蒸気と希釈ガスとの混合ガスをプラズマの作動ガスとしてプラズマ発生装置に供給し、発生した水蒸気プラズマガスを排ガス中に供給し、排ガス中の有害成分をプラズマによって酸化し無害化することを特徴とする、水蒸気プラズマによる排ガス処理方法である。【効果】 従来は電子線照射でしか得られなかった活性な化学種、O、OH、H、HO2 、O3 などをプラズマ発生装置によって容易に得ることができ、電子線照射法の最大の問題であった電子線加速器の設置および電離放射線取扱上の制約といった問題をすべて解決することができる。こうしてこの発明の方法により、同時多目的排ガス処理が可能である。
Claim (excerpt):
水蒸気単体あるいは水蒸気と希釈ガスとの混合ガスをプラズマの作動ガスとしてプラズマ発生装置に供給し、発生した水蒸気プラズマガスを排ガス中に供給し、排ガス中の有害成分をプラズマによって酸化し無害化することを特徴とする、水蒸気プラズマによる排ガス処理方法。
IPC (3):
B01D 53/32 ,  B01D 53/34 129 ,  F23J 15/00 ZAB

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