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J-GLOBAL ID:200903012419984675

プリント回路用の柔軟で、水性処理可能な光画像形成性の永久的コーティング

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995080623
Publication number (International publication number):1995278492
Application date: Apr. 06, 1995
Publication date: Oct. 24, 1995
Summary:
【要約】【構成】 a) 少なくとも1つのエチレン性不飽和ジカルボン酸無水物と、少なくとも1つのエチレン性不飽和コモノマーとから形成され、そして少なくとも1つの構造単位Aとカルボキシル基を含有する少なくとも1つの追加的な構造単位B1またはB2とを含有するコポリマーと、第1級アミンとの反応生成物であり、2,000〜10,000の範囲の分子量を有する少なくとも1つの低分子量コポリマーバインダー;および50,000〜500,000の範囲の分子量を有する、少なくとも1つのカルボン酸含有高分子量コポリマーバインダーの混合物からなるコバインダー系;b) アクリル化ウレタンモノマー成分;c) 光開始剤または光開始剤系;およびd) ブロックトポリイソシアネート架橋剤;から構成される、光重合性コーティング組成物。【効果】 この組成物は水性処理可能で、硬化後に、プリント回路保護用の永久的なコーティングとして使用するための優れた柔軟性を有している。
Claim (excerpt):
a) 少なくとも1つのエチレン性不飽和ジカルボン酸無水物と、少なくとも1つのエチレン性不飽和コモノマーとから形成され、そして少なくとも1つの構造単位Aとカルボキシル基を含有する少なくとも1つの追加的な構造単位B1またはB2とを含有するコポリマーと、第1級アミンとの反応生成物であり、2,000〜10,000の範囲の分子量を有する少なくとも1つの低分子量コポリマーバインダー;および50,000〜500,000の範囲の分子量を有する、少なくとも1つのカルボン酸含有高分子量コポリマーバインダーの混合物からなるコバインダー系、ここで:(I) 該低分子量コポリマーバインダーの5〜50重量%は、カルボキシル基を含有する構造単位B1、B2またはそれらの組合わせの少なくとも1つから形成され、(II) 該低分子量コポリマーバインダーの50〜95重量%は、構造単位B1およびB2とは別の構造単位Aから形成され、(III) A、B1およびB2は次の各構造を有しており:【化1】(ここで、R1はH、アルキル、フェニルまたはアリールであり;R2はH、CH3、フェニル、アリール、-COOR7、-CONR8R9または-CNであり;R3とR4は独立的にHまたはアルキルであり;R5はアルキルまたはアリールで、第1級アミノ、第2級アミノ、第3級アミノ、ヒドロキシまたはエーテルなどの各基、またはこれらの組み合わせにより置換されているかまたは未置換のものであり;R6は-OHまたは-NHR5であり;およびR7、R8およびR9は独立的にH、アルキルまたはアリールで、ここで前記アルキルまたはアリールはヒドロキシ、エステル、ケト、エーテルまたはチオエーテルなどの各基の、1個またはそれより多くにより置換されているかまたは未置換のものである)b) アクリル化ウレタンモノマー成分;c) 光開始剤または光開始剤系;およびd) ブロックトポリイソシアネート架橋剤;から構成される、硬化後に溶融ハンダ耐性でありかつまた柔軟である、水性処理可能な光重合性の永久的コーティング組成物。
IPC (5):
C09D175/00 PHV ,  G03F 7/027 513 ,  G03F 7/028 ,  H05K 3/28 ,  H05K 3/46

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