マグネトロンスパッタ装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992193348
Publication number (International publication number)：1994010127
Application date： Jun. 28, 1992
Publication date： Jan. 18, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】この発明の目的は、ターゲットの使用効率を向上させると共に、スパッタによる不純物の発生等を防止することの可能なマグネトロンスパッタ装置を提供することにある。【構成】この発明のマグネトロンスパッタ装置は、ターゲット12を表面に取り付けたバッキングプレート11の裏面側に配設した磁石装置13に移動手段14を取り付け、その磁石装置13をバッキングプレート11の裏面に沿って移動させ、かつ、その移動により、高密度のプラズマがターゲット12の一端部と他端部との間で各端部においてはみ出すようになるまで、磁石装置13を動かすことを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

バッキングプレートの表面にターゲットを取り付け、バッキングプレートの裏面側に磁石装置を配設し、この磁石装置によってターゲット表面近傍の空間に湾曲した磁場を形成し、この湾曲した磁場によりターゲット表面近傍の空間に高密度のプラズマを発生し、この高密度のプラズマ中のイオンをターゲットに加速衝突させてターゲットをスパッタして、ターゲットに対向して配置された基板に薄膜を形成するマグネトロンスパッタ装置において、上記磁石装置に移動手段を取り付け、この移動手段によって上記磁石装置を上記バッキングプレートの裏面に沿って移動させ、かつ、その移動により上記高密度のプラズマが上記ターゲットの一端部と他端部との間で各端部においてはみ出すようになるまで、上記磁石装置を動かすことを特徴とするマグネトロンスパッタ装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

特開昭63-125675
特開昭63-166968
特開昭63-307270

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