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J-GLOBAL ID:200903012432928245
熱フィラメントCVD装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
八木 秀人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996227205
Publication number (International publication number):1998072284
Application date: Aug. 28, 1996
Publication date: Mar. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】 迅速かつ確実に所望のダイアモンド膜等を作成することができる熱フィラメントCVD装置を提供することを課題としている。【解決手段】 基板支持台と、基板支持台上の基板を加熱する熱フィラメントと、ガス供給系とを有する熱CVD装置において、前記熱フィラメントと前記基板支持台との間に掃引電圧を印加し前記熱フィラメントと前記基板支持台との間を流れる電流を測定して電流-電圧特性を表示するカーブトレーサを備えるようにして、成膜中に膜質を知ることができるようにしている。また、前記掃引電圧中の特定値における電流の値を熱フィラメント用ヒータ電源またはガス供給系のマスフローコントローラにフィードバックするようにして、常に一定の膜質が得られるようにしている。
Claim (excerpt):
基板支持台と、基板支持台上の基板を加熱する熱フィラメントと、ガス供給系とを有する熱フィラメントCVD装置において、前記熱フィラメントと前記基板支持台との間に掃引電圧を印加しつつ前記熱フィラメントと前記基板支持台との間を流れる電流を測定して電流-電圧特性を表示するカーブトレーサを備えたことを特徴とする熱フィラメントCVD装置。
IPC (4):
C30B 29/04
, C23C 16/26
, C23C 16/46
, C23C 16/52
FI (4):
C30B 29/04 A
, C23C 16/26
, C23C 16/46
, C23C 16/52
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