Pat
J-GLOBAL ID:200903012452713300
ビスフェノールAの製造方法
Inventor:
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,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
大谷 保
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002303001
Publication number (International publication number):2004137197
Application date: Oct. 17, 2002
Publication date: May. 13, 2004
Summary:
【課題】ビスフェノールAの製造方法において、反応混合物からビスフェノールAを取出す際に、ビスフェノールAとフェノールとの付加物を高純度で効率良く反応母液から回収する。【解決手段】ビスフェノールAとフェノールとの付加物が結晶状態で含有するビスフェノールAのフェノールスラリー溶液を、減圧下、加温した不活性ガス気流中で水平無端ベルトフィルター上に導入することにより、該フィルター上に結晶状態のビスフェノールAとフェノールとの付加物層を形成させ、フィルターを介して該付加物層に含まれる母液を分離することにより、付加物層の含液率を30重量%以下とした後、付加物層をフィルター上から自重により分離する。【選択図】 無
Claim (excerpt):
酸触媒の存在下にフェノールとアセトンを反応させて得られるビスフェノールAのフェノール溶液からビスフェノールAとフェノールとの付加物を晶析させ、生成したスラリーの固液分離後、固体成分からフェノールを除去するビスフェノールAの製造方法において、
(1)ビスフェノールAとフェノールとの付加物を結晶状態で含有するビスフェノールAのフェノールスラリー溶液を減圧下、加温した不活性ガス気流中で水平無端ベルトフィルター上に導入することにより、該フィルター上に結晶状態のビスフェノールAとフェノールとの付加物層を形成させ、
(2)該フィルターを介して該付加物層に含まれる母液を分離することにより、該付加物層の含液率を30重量%以下とし、
(3)該付加物層を該フィルター上から自重により分離する
ことを特徴とするビスフェノールAの製造方法。
IPC (3):
C07C37/84
, C07C37/70
, C07C39/16
FI (3):
C07C37/84
, C07C37/70
, C07C39/16
F-Term (15):
4H006AA02
, 4H006AC25
, 4H006AD15
, 4H006AD17
, 4H006BA72
, 4H006BC50
, 4H006BC51
, 4H006BD60
, 4H006DA64
, 4H006FC52
, 4H006FE13
, 4H039CA19
, 4H039CD10
, 4H039CD40
, 4H039CL25
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
-
密閉型濾過機
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-091347
Applicant:月島機械株式会社
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特開昭59-231033
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
-
<工場操作シリーズ>新増補・ろ過, 1992, 449-455
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