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J-GLOBAL ID：200903012460491529

感光性高分子化合物及びこれを含むフォトレジスト組成物

Inventor： 崔 相 俊 ,  朴 春 根 ,  高 永 範
Applicant, Patent owner： 三星電子株式会社
Agent (1)： 八田 幹雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997208947
Publication number (International publication number)：1998083076
Application date： Aug. 04, 1997
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：

【要約】【課題】 化学式(A)で示される感光性高分子化合物及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 下記の化学式(A)で表される感光性高分子化合物:【化1】ただし、式中、R1 は水素又はメチル基、R2 は炭素数6〜20の脂環式炭化水素基、R3 はt-ブチル基又はテトラヒドロピラニル基であり、m/(n+m)=0.1〜0.9である。これによれば、93nm領域で透明であり、食刻工程に対する耐性に優れている上に、良好な接着性でリフティング現象を減らし、製造し易いフォトレジストを確保し得る。

Claim (excerpt)：

下記の化学式(A)で示される感光性高分子化合物:【化1】ただし、式中、R1 は水素又はメチル基で、R2 は炭素数6〜20の脂環式炭化水素基で、R3 はt-ブチル基又はテトラヒドロピラニル基であり、m/(n+m)=0.1〜0.9である。

IPC (5)：

G03F 7/033 ,  C08F220/26 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/033 ,  C08F220/26 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R