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J-GLOBAL ID：200903012479749640
表情しわの模擬方法および装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
宇井 正一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993247120
Publication number (International publication number)：1995100126
Application date： Oct. 01, 1993
Publication date： Apr. 18, 1995
Summary：
【要約】【目的】 実人間の顔の表情しわを、非破壊あるいは無侵襲により、模擬することができる方法および装置を提供する。【構成】 三次元顔形状計測手段11およびスキン-皮下組織の物性および厚さ計測手段13とを含む入力部1 と、その入力部からの物性データと同じ条件のスキン-皮下組織系の有限要素解との比較により、そのスキン-皮下組織系の超弾性構成則を同定する解析データ生成機能16と、その構成則に基づいて有限要素法によりスキン-皮下組織系の座屈および後座屈解析を行う三次元有限要素法によるしわ発生およびしわ成長の解析機能17とを含む解析部2 と、少なくとも上記解析部によるしわ解析結果の画像表示を行うディスプレイ手段を含む出力部3 とにより構成される。
Claim (excerpt)：
非破壊かつ無侵襲によりスキン-皮下組織の物性および厚さを計測し、該スキン-皮下組織の物性の計測結果と同一系の有限要素解との比較に基づいてスキン-皮下組織系の超弾性構成則を同定し、同定された構成則に基づいて有限要素法によりスキン-皮下組織系の座屈および後座屈解析を行うことにより、しわの生成および成長解析を行うことを特徴とする表情しわの模擬方法。
IPC (2)：
FI (2)：
A61B 5/10 300 Q
, G06F 15/42
