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J-GLOBAL ID：200903012517181416

シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの混合物の製造法

Inventor： ユルゲン・シヤルシユミツト ,  クリステイネ・メンドーツア-フローン ,  ハンス-ヨゼフ・ブイシユ ,  ライナー・クロツツビユヒヤー
Applicant, Patent owner： バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 小田島 平吉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993341146
Publication number (International publication number)：1994199714
Application date： Dec. 13, 1993
Publication date： Jul. 19, 1994
Summary：

【要約】【構成】 Pd触媒の存在下のフェノールの水素化において、生成するシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの特定の比を、Pd触媒の特定の手順による活性化および再生により達成する方法であつて、生成物の比率およびパラジウム触媒の処理は例えば次の時間/温度条件を使用する:a)シクロヘキサノン:シクロヘキサノール=85:15〜98:2a1)初期の活性化のために、O2前処理なしおよび300〜500°Cにおいて50〜10時間のH2処理、a2)再生のために、220〜380°Cにおいて30〜0.5時間のO2前処理および150〜250°Cにおいて2〜6時間のH2処理。【効果】 本発明の方法によれば、Pd触媒を特定の手順で活性化、再生することにより、生成するシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの比を、前以て決定することができる。

Claim (excerpt)：

支持されたパラジウム触媒の存在下に150〜250°Cにおいて0.8〜8バール、好ましくは1〜5バール下に気相中でフェノールを水素化することによって30:70〜98:2の範囲の互いに対して前以て決定した比のシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールの混合物を製造する方法であって、初期の活性化および使用後の再生のために、触媒を適当ならば酸素の前処理にかけ、次いで各場合において0.8〜8バール、好ましくは1〜5バール、とくに好ましくは1〜3バール下に水素処理にかけ、次の時間/温度条件:a)シクロヘキサノン:シクロヘキサノール=85:15〜98:2a1)初期の活性化のために、O2前処理なしおよび300〜500°Cにおいて50〜10時間のH2処理、a2)再生のために、220〜380°Cにおいて30〜0.5時間のO2前処理および150〜250°Cにおいて2〜6時間のH2処理、b)シクロヘキサノン:シクロヘキサノール=30:70〜85:15以下b1)初期の活性化のために、250〜500°Cにおいて40〜3時間のO2前処理および150〜250°Cにおいて2〜6時間のH2処理、b2)再生のために、380〜600°Cにおいて30〜0.5時間のO2前処理および150〜250°Cにおいて2〜6時間のH2処理、を適用して前以て決定した比を確立することを特徴とする方法。

IPC (3)：

C07C 27/04 ,  C07C 35/08 ,  C07C 49/403