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J-GLOBAL ID：200903012583043105

高分子成型体へのグラフト鎖導入法

Inventor： 横田 英之 ,  世古 政弘 ,  稲森 和紀 ,  田中 昌和
Applicant, Patent owner： 東洋紡績株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993324650
Publication number (International publication number)：1995179630
Application date： Dec. 22, 1993
Publication date： Jul. 18, 1995
Summary：

【要約】【目的】 グラフト鎖を高い効率で基材表面に導入することが可能な高分子成型体へのグラフト鎖導入法を提供する。【構成】 基材である高分子成型体の表面にあらかじめ、放射線照射により活性化されやすい構造の化合物を導入しておき、これに放射線を照射し、その後ビニルモノマーのえきに浸漬して、該モノマーを重合させて、基材表面に該モノマーの重合体を固定する。

Claim (excerpt)：

放射線照射によって活性化されやすい構造の化合物をあらかじめ導入した高分子成型体に放射線を照射した後、ビニルモノマー溶液に浸漬することによって該ビニルモノマーを重合せしめ、該高分子成型体表面にグラフト鎖として固定化することを特徴とする放射線照射による高分子成型体へのグラフト鎖導入法。

IPC (4)：

C08J 7/00 305 ,  C08J 7/16 CFD ,  D04H 1/54 ,  D06M 14/32