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J-GLOBAL ID：200903012583696370

高い磁気抵抗効果を有する構造の製造方法

Inventor： ヨアヒム ウエツカー ,  リツトマール ヘルモルト
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 富村 潔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993261932
Publication number (International publication number)：1994283367
Application date： Sep. 24, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 物質系Cu-Coをベースとし高い磁気抵抗効果を有する構造の製造方法を、比較的簡単な方法で特に8%以上の高い磁気抵抗効果を有する特に層状又は帯状の構造が得られるように、またこの特性の良好な再現性が保証されるように改善する。【構成】 まずCoを過飽和にさせたCu混晶を含む合金から成る構造の中間製品が急速凝固技術により形成され、続いてこの中間製品が所定の熱処理によりCuマトリックス中にCoから成るか又はこれを含む析出物を含有する所望の構造の最終製品へ転換される。

Claim (excerpt)：

物質系Cu-Coをベースとし高い磁気抵抗効果を有する構造の製造方法において、まずCoを過飽和にさせたCu混晶を含む合金から成る構造の中間製品が急速凝固技術により形成され、続いてこの中間製品が所定の熱処理によりCuマトリックス中にCoから成るか又はこれを含む析出物を含有する所望の構造の最終製品へ転換されることを特徴とする高い磁気抵抗効果を有する構造の製造方法。

IPC (11)：

H01F 41/22 ,  B22D 11/06 360 ,  C22C 1/02 ,  C22C 1/02 503 ,  C22C 9/00 ,  C22C 9/06 ,  C30B 23/06 ,  C30B 29/36 ,  G01N 27/72 ,  H01F 10/16 ,  H01L 43/12