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J-GLOBAL ID:200903012596021127

ML-EM画像再構成法及び医用画像形成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 八木田 茂 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999333380
Publication number (International publication number):2000180550
Application date: Nov. 24, 1999
Publication date: Jun. 30, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】放射計算技術における減衰補正を作成するための新規技術を提供する。【解決手段】ML-EM画像再構成の方法が、投影データを発生する診断用画像作成装置10に関連して使用するため提供される。測定放射投影データを含む投影データを収集するし、初期の放射マップ及び減衰マップを推定する。放射マップ及び減衰マップは、繰り返し更新され、繰り返し毎に、前回放射マップを採用し、それを(i)測定放射投影データ、(ii)多次元投影モデルを用いて実行される前回の投影マップの再投影、及び(iii)減衰マップの再投影に基づいて調整することにより放射マップを再計算する。同様に、繰り返し毎に、前回の減衰マップを採用し、それを(i)測定放射投影データ及び(ii)多次元投影モデルを用いて実行される前回の投影マップの再投影に基づいて調整することにより減衰マップを再計算する。
Claim (excerpt):
投影データを発生する診断用画像装置との関連で用いられるML-EM画像再構成法であって、(a)測定放射投影データを含む投影データを収集するステップと、(b)初期放射マップを推定するステップと、(c)初期減衰マップを推定するステップと、(d)放射マップと減衰マップとを繰り返し更新するステップと、(e)繰り返し毎に、前回の放射マップを採用し、それを(i)測定放射投影データと(ii)多次元投影モデルを用いて実行される前回の投影マップの再投影と(iii)減衰マップの再投影とに基づいて調整することにより、放射マップを再計算するステップと、(f)繰り返し毎に、前回の減衰マップを採用し、それを(i)測定放射投影データと(ii)多次元投影モデルを用いて実行される前回の投影マップの再投影とに基づいて調整することにより減衰マップを再計算するステップと、を含むことを特徴とするML-EM画像再構成法。

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