193NMリソグラフィーのためのヒドロキシ-アミノ熱硬化下塗り

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：高木千嘉 , 西村公佑 , 結田純次 , 三輪昭次
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003419662
Publication number (International publication number)：2004199073
Application date： Dec. 17, 2003
Publication date： Jul. 15, 2004
Summary：

【課題】深紫外線リソグラフィーにおける熱硬化性下塗り組成物を提供すること。250°Cより低い温度、3分より短い時間で硬化し、かつ上塗りレジスト溶媒に不溶、反射効果を最小にし、ノボラック樹脂に匹敵するエッチング速度を有する下塗りを提供する。【解決手段】ヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤、熱酸発生剤を含む熱硬化性組成物からなる熱硬化性下塗りの上に、放射線感受性レジスト材料を上塗りする。ヒドロキシル含有ポリマーは30〜60モルのヒドロキシスチレンモノマー単位及び40〜70モルのイソボルニル(メタ)アクリレートモノマー単位からなる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(a)被覆基板を準備する;ここで被覆基板は基板、前記基板上に置かれた熱硬化下塗り、及び前記熱硬化下塗りの上に置かれた放射線感受性レジスト上塗りからなり、そして前記熱硬化下塗りはヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤及び熱酸発生剤を含む熱硬化組成物からなる; (b)前記放射線感受性レジスト上塗りを化学線に画像形成露光する;そして (c)前記放射線感受性レジスト上塗りを現像剤で現像してレジスト画像を形作る段階からなるレリーフ構造物の製造方法。

IPC (5)：

G03F7/11 , C08F220/28 , G03F7/039 , G03F7/075 , H01L21/027

FI (6)：

G03F7/11 503 , C08F220/28 , G03F7/039 601 , G03F7/075 511 , H01L21/30 502R , H01L21/30 573

F-Term (27)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB34 , 2H025CB41 , 2H025DA34 , 2H025FA17 , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL39P , 4J100BA03P , 4J100BA80R , 4J100BC53Q , 4J100CA05 , 4J100JA37 , 4J100JA38 , 5F046NA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ハレーション止め組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-328816 Applicant：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
深紫外線フォトレジスト用の反射防止膜用コーティング組成物
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-582851 Applicant：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
特許第3778485号

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Thermal stability of silicon-containing methacrylate based bilayer resist for 193 nm lithography

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