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J-GLOBAL ID：200903012625574416

光学活性2-アミノシクロヘキサノール誘導体の製造法

Inventor： 竹崎 宏 ,  藤野 年弘 ,  佐藤 治代
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999274126
Publication number (International publication number)：2001097933
Application date： Sep. 28, 1999
Publication date： Apr. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】光学活性2-アミノシクロヘキサノール誘導体を製造する。【解決手段】光学活性2-アミノシクロヘキサノール誘導体を光学分割により製造する際、アミノ酸誘導体、酒石酸アミド誘導体またはリンゴ酸誘導体のいずれかの光学活性カルボン酸を分割剤として用いる。

Claim (excerpt)：

一般式(1)【化1】(式中R1、R2は、水素、アルキル基、アリール基およびアラルキル基のいずれかを示し、それぞれ同一でも異なっていても良い。但しR1およびR2の両者が水素の場合はのぞく。)で表される2-アミノシクロヘキサノール誘導体を光学活性アミノ酸誘導体、光学活性酒石酸アミド誘導体および光学活性リンゴ酸誘導体のいずれかを分割剤として光学分割することを特徴とする光学活性2-アミノシクロヘキサノール誘導体の製造法。

IPC (5)：

C07C213/10 ,  C07B 57/00 365 ,  C07B 57/00 370 ,  C07C215/44 ,  C07M 7:00

FI (5)：

C07C213/10 ,  C07B 57/00 365 ,  C07B 57/00 370 ,  C07C215/44 ,  C07M 7:00

F-Term (9)：

4H006AA02 ,  4H006AC83 ,  4H006BA50 ,  4H006BA51 ,  4H006BA52 ,  4H006BJ20 ,  4H006BU32 ,  4H006BU38 ,  4H006BU46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• カルボスチリル誘導体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-265638   Applicant：大塚製薬株式会社
• 光学活性シクロブチルアミン類の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-260523   Applicant：日本化薬株式会社