Pat
J-GLOBAL ID:200903012670313100

放射線照射装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 薄田 利幸 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991086628
Publication number (International publication number):1994130200
Application date: Apr. 18, 1991
Publication date: May. 13, 1994
Summary:
【要約】【目的】 特に患者体内の一点を任意の方向から高位置精度で照射できる放射線照射装置を実現する。【構成】 加速された電子ビーム2を電気的に偏向制御して複数個の放射線発生位置を照射し、ここで発生した放射線6が治療部位の一点8を照射できるように放射線のコリメータ7を備え、ガントリー11を機械的に回転可能に構成した。【効果】 電子ビームを用いて、任意の方向から高い位置精度で患者体内等の微小点に放射線を照射できる。
Claim (excerpt):
電子ビームを加速する加速器と、上記加速器からの電子ビームを電気的に偏向制御して複数個の放射線発生位置を照射する偏向器と、上記複数の放射線発生位置に対応して配置され、電子ビームの照射によって放射線を発生する放射線発生手段と、上記複数の放射線発生位置からの放射線を特定の微小点に照射するように上記放射線をコリメートするコリメータとを備えたことを特徴とする放射線照射装置。
IPC (2):
G21K 5/02 ,  A61N 5/10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭53-022388
  • 特開昭53-117397

Return to Previous Page