Pat

J-GLOBAL ID：200903012701907942

レーザ光照射装置

Inventor： 伊藤 弘
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995040027
Publication number (International publication number)：1996229693
Application date： Feb. 28, 1995
Publication date： Sep. 10, 1996
Summary：

【要約】【目的】 レーザ光22が入射される容器26の窓に溶融金蒸気が付着するのを防止し、半導体基板30の全照射領域に対して均一にレーザ光を照射する。【構成】 レーザ光源21から出力されたレーザ光22を透光板27が嵌込まれた窓28を介して容器26内に導いてこの容器内に収納された半導体基板30上に照射させると共に、XYテーブル29で半導体基板を二次元移動させることによってレーザ光を半導体基板上で走査させる。そして、レーザ光源から出力されたレーザ光22を半導体基板上に傾斜して入射させる光学機構と、容器内における半導体基板の入射位置の上方位置に配設され、半導体基板30のレーザ光の照射位置から放射される溶融金属蒸気33を捕獲する遮蔽板32とを設ける。

Claim (excerpt)：

レーザ光源から出力されたレーザ光を容器内に導いてこの容器内に収納された半導体基板上に照射させると共に、XYテーブルで前記半導体基板を二次元移動させることによって前記レーザ光を前記半導体基板上で走査するレーザ光照射装置において、前記レーザ光源から出力されたレーザ光を前記半導体基板上に傾斜して入射させる光学機構と、前記容器内における前記半導体基板の前記入射位置の上方位置に配設され、前記半導体基板の前記レーザ光の照射位置から放射される溶融金属蒸気を捕獲する遮蔽板とを備えたレーザ光照射装置。

IPC (7)：

B23K 26/16 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/12 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/268 ,  H01S 3/101 ,  H01L 21/3205

FI (7)：

B23K 26/16 ,  B23K 26/06 Z ,  B23K 26/12 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/268 Z ,  H01S 3/101 ,  H01L 21/88 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平3-016130
  
• 特開昭62-151289
  
• 特開平4-258394
  

Cited by examiner (3)

• 特開平3-016130
  
• 特開昭62-151289
  
• 特開平4-258394