Pat

J-GLOBAL ID：200903012729808222

走査型露光装置

Inventor： 加藤 正紀
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994267903
Publication number (International publication number)：1996130178
Application date： Nov. 01, 1994
Publication date： May. 21, 1996
Summary：

【要約】【目的】大面積を転写可能であり、スループットの低下を招くことなく、マスクの良好な像を基板上に転写すること。【構成】マスク(M) と基板(P) とを走査方向(Y方向)に沿って移動させつつマスク(M) 上のパターンを基板(P) 上に投影する走査型露光装置は、マスク(M) 上にて第1の視野(10a) を有し、第1の視野(10a) 内のマスクの等倍の倒立像を基板(P) 上に形成する第1の投影光学系 (1a〜4a) と、マスク(M) 上にて第1の視野(10a) とは異なる第2の視野(10b) を有し、第2の視野(10b) 内のマスクの等倍の倒立像を基板(P) 上に形成する第2の投影光学系 (1b〜4b) とを有する。そして、第1及び第2の投影光学系 (1a〜4a, 1b〜4b) は、少なくとも像側テレセントリック光学系である。

Claim (excerpt)：

マスクと基板とを走査方向に沿って移動させつつ前記マスク上のパターンを前記基板上に投影する走査型露光装置において、前記マスク上にて第1の視野を有し、該第1の視野内の前記マスクの等倍の倒立像を前記基板上に形成する第1の投影光学系と、前記マスク上にて前記第1の視野とは異なる第2の視野を有し、該第2の視野内の前記マスクの等倍の倒立像を前記基板上に形成する第2の投影光学系とを有し、前記第1及び第2の投影光学系は、少なくとも像側テレセントリック光学系であることを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 515 D