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J-GLOBAL ID：200903012741538788

半導体用塗布拡散剤

Inventor： 大塚 知子
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 大胡 典夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996091008
Publication number (International publication number)：1997283457
Application date： Apr. 12, 1996
Publication date： Oct. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】 多種多様な特性を有する半導体素子の製造方法に対して、広範囲に対応できかつ、濃度や粘度等の塗布特性を柔軟に変えられる新規な半導体素子用塗布拡散剤を提供する。【解決手段】 2酸化ケイ素膜を形成する原料と、不純分を構成する他の原料と,この原料を投入する溶媒としてのアルコールとより成る点に特徴がある外に、前記2酸化ケイ素膜を形成する原料として、SiーX4 (X:炭化水素化合物)で表されるケイ素酸化物で構成させ、更に前記炭化水素化合物より成るXは、ーOR(R:炭化水素基)、ーR、ーOH等前記溶媒に溶けやすい基を備え、更に又前記ケイ素化合物炭化水素は、ホモ炭化水素化合物基及びヘテロ炭化水素化合物基を有する点にも特徴がある。

Claim (excerpt)：

2酸化ケイ素膜を形成する原料と、不純物を構成する他の原料と、この原料を投入する溶媒であるアルコールより成る半導体用塗布拡散剤