Pat
J-GLOBAL ID：200903012743391938

化粧料

Inventor：
中川 典昭

About 中川 典昭

, 
酒井 進吾

About 酒井 進吾

, 
炭田 康史

About 炭田 康史


Applicant, Patent owner：
カネボウ株式会社

About カネボウ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002234445
Publication number (International publication number)：2004075553
Application date： Aug. 12, 2002
Publication date： Mar. 11, 2004
Summary：
【課題】「肌荒れ」改善効果を示すことができる化粧料を提供する。【解決手段】(A)乳酸、乳酸塩からなる群より選択される1種以上と、(B)抗炎症植物エキス、抗炎症菌体エキス、抗炎症菌体培養液からなる群より選択される1種以上とを含有することを特徴とする化粧料である。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)乳酸、乳酸塩からなる群より選択される1種以上と、(B)抗炎症植物エキス、抗炎症菌体エキス、抗炎症菌体培養液からなる群より選択される1種以上とを含有することを特徴とする化粧料。
IPC (2)：
A61K7/48 ,  A61K7/00
FI (5)：
A61K7/48 ,  A61K7/00 C ,  A61K7/00 K ,  A61K7/00 M ,  A61K7/00 N
F-Term (33)：
4C083AA031 ,  4C083AA032 ,  4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083AB032 ,  4C083AB282 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC242 ,  4C083AC301 ,  4C083AC302 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC662 ,  4C083AD042 ,  4C083AD152 ,  4C083AD492 ,  4C083BB41 ,  4C083CC02 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083EE06 ,  4C083EE10 ,  4C083EE12 ,  4C083EE13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
  • 皮膚化粧料組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-262171   Applicant：サンスター株式会社
  • ヒドロキシ酸またはレチノイドを含む組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-031238   Applicant：ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
  • 化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-239486   Applicant：花王株式会社
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