光硬化性樹脂組成物、パターン形成方法及び基板保護用フィルム

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001311374
Publication number (International publication number)：2003122005
Application date： Oct. 09, 2001
Publication date： Apr. 25, 2003
Summary：

【要約】【解決手段】 (A)式(1)の繰り返し単位を有するオルガノシロキサン系高分子化合物、【化1】(R1〜R4は1価炭化水素基、nは1〜1,000、Xは下記式から選ばれる基)【化2】(B)ホルマリン又はホルマリン-アルコールにより変性されたアミノ縮合物、一分子中に平均して2個以上のメチロール基又はアルコキシメチロール基を有するフェノール化合物、及び一分子中に平均して2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物から選ばれるいずれか1種以上、(C)光酸発生剤、(D)(R11)mSi(OR12)4-m又はその部分加水分解縮合物(R11は1価炭化水素基、R12はアルキル基、mは0〜2の整数)を含有することを特徴とする光硬化性樹脂組成物。【効果】本発明の光硬化性樹脂組成物を用いることにより、耐ドライエッチング性に優れたパターンを形成することが可能である。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量500〜200,000のオルガノシロキサン系高分子化合物、【化1】(式中、R1〜R4はそれぞれ同一でも異なってもよい炭素数1〜8の1価炭化水素基を示す。また、nは1〜1,000の整数である。Xは下記式から選ばれる基を示す。)【化2】(B)ホルマリン又はホルマリン-アルコールにより変性されたアミノ縮合物、一分子中に平均して2個以上のメチロール基又はアルコキシメチロール基を有するフェノール化合物、及び一分子中に平均して2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物から選ばれるいずれか1種以上、(C)光酸発生剤、(D)下記一般式(2)で示される珪素化合物又はその部分加水分解縮合物 (R11)mSi(OR12)4-m (2) (式中、R11は置換又は非置換の炭素数1〜9の1価炭化水素基であり、R12は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R11及びR12は同一でも異なってもよい。mは0〜2の整数を表す。)を含有することを特徴とする光硬化性樹脂組成物。

IPC (13)：

G03F 7/038 601 , B05D 7/24 301 , C08G 59/62 , C08J 5/18 CFH , C08K 5/13 , C08K 5/5415 , C08L 83/04 , C08L 83/14 , G03F 7/004 501 , G03F 7/075 521 , G03F 7/40 501 , H01L 21/027 , C08L 61:20

FI (13)：

G03F 7/038 601 , B05D 7/24 301 T , C08G 59/62 , C08J 5/18 CFH , C08K 5/13 , C08K 5/5415 , C08L 83/04 , C08L 83/14 , G03F 7/004 501 , G03F 7/075 521 , G03F 7/40 501 , C08L 61:20 , H01L 21/30 502 R

F-Term (68)：

2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB32 , 2H025CB33 , 2H025CB45 , 2H025CB55 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA15 , 2H025FA29 , 2H096AA25 , 2H096BA01 , 2H096BA06 , 2H096BA20 , 2H096EA02 , 2H096EA03 , 2H096EA06 , 2H096FA01 , 2H096GA02 , 2H096GA03 , 2H096HA01 , 2H096JA03 , 2H096JA04 , 2H096LA16 , 4D075BB42Z , 4D075CA47 , 4D075DB31 , 4D075DC21 , 4D075EA21 , 4D075EB43 , 4F071AA41 , 4F071AA42 , 4F071AA52 , 4F071AA67 , 4F071AC16 , 4F071AF29 , 4F071AH12 , 4F071AH13 , 4F071BB02 , 4F071BC01 , 4J002CC182 , 4J002CC212 , 4J002CD002 , 4J002CP031 , 4J002EJ016 , 4J002EX037 , 4J002GH00 , 4J002GP03 , 4J002GQ05 , 4J036AA01 , 4J036AB03 , 4J036AD01 , 4J036AE05 , 4J036AE07 , 4J036AF06 , 4J036CD16 , 4J036FB07 , 4J036FB16 , 4J036GA26 , 4J036HA01 , 4J036HA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-158325 Applicant：信越化学工業株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-229442 Applicant：日本合成ゴム株式会社
フォトソルダーレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-296332 Applicant：東洋インキ製造株式会社

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