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J-GLOBAL ID：200903012789133330

基板洗浄方法および基板洗浄装置

Inventor：
荒木 浩之

About 荒木 浩之


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 間宮 武雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998257954
Publication number (International publication number)：2000084504
Application date： Sep. 11, 1998
Publication date： Mar. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 1つの処理槽内において基板を薬液で洗浄した後に純水で水洗する場合に、薬液洗浄の過程で不要物が基板の表面に付着することを無くし、基板の洗浄効果を高めることができる方法を提供する。【手段】 薬液洗浄工程において、処理槽10内へ液体供給口12を通して薬液を供給し基板Wを薬液で洗浄した後、処理槽の底部に連通した排液管34を通して処理槽内から薬液を排出させた後に再び処理槽内へ液体供給口を通して薬液を供給し基板を薬液で洗浄する排液・薬液洗浄操作を少なくとも1回行う。
Claim (excerpt)：
下部に液体供給口を有するとともに上部に液体が溢れ出す溢流部を有し内部に基板が搬入される処理槽内へ、前記液体供給口を通して薬液を供給し、基板を薬液中に浸漬させて洗浄する薬液洗浄工程と、前記処理槽内へ前記液体供給口を通して純水を供給し、基板を純水中に浸漬させて水洗する水洗工程と、を含む基板洗浄方法において、前記薬液洗浄工程において、前記処理槽内へ前記液体供給口を通して薬液を供給し基板を薬液で洗浄した後、前記処理槽の底部に連通した排液管を通して処理槽内から薬液を排出させた後に再び処理槽内へ前記液体供給口を通して薬液を供給し基板を薬液で洗浄する排液・薬液洗浄操作を少なくとも1回行うことを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (3)：
B08B 3/08 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 648
FI (3)：
B08B 3/08 A ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 648 G
F-Term (14)：
3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB04 ,  3B201BB05 ,  3B201BB23 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201CA01 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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