純水製造装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内山充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997300783
Publication number (International publication number)：1999128922
Application date： Oct. 31, 1997
Publication date： May. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】半導体製造などの電子産業分野、医薬用水関連分野などで用いられる、比抵抗が高く、かつホウ素濃度を大幅に低減した純水又は超純水の製造に適した純水製造装置を提供する。【解決手段】(A)ホウ素含有水にアルカリを添加してpHを9.2以上に調整するアルカリ添加装置、(B)pHの調整されたホウ素含有水が通水される耐アルカリ性逆浸透膜及び(C)耐アルカリ性逆浸透膜の透過水が通水される1個又は2個の正荷電逆浸透膜を有することを特徴とする純水製造装置。

Claim (excerpt)：

(A)ホウ素含有水にアルカリを添加してpHを9.2以上に調整するアルカリ添加装置、(B)pHの調整されたホウ素含有水が通水される耐アルカリ性逆浸透膜及び(C)耐アルカリ性逆浸透膜の透過水が通水される正荷電逆浸透膜を有することを特徴とする純水製造装置。

IPC (4)：

C02F 1/44 , B01D 61/04 , B01D 61/08 , C02F 1/58

FI (4)：

C02F 1/44 J , B01D 61/04 , B01D 61/08 , C02F 1/58 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

超純水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-005616 Applicant：オルガノ株式会社
海水の淡水化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-186247 Applicant：日東電工株式会社
逆浸透膜分離装置および高濃度溶液の分離方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-314245 Applicant：東レ株式会社

Show all

Return to Previous Page