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J-GLOBAL ID：200903012799233430

放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 内野 正市 ,  上野 巧
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993302537
Publication number (International publication number)：1995159993
Application date： Dec. 02, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】高感度,高解像度を有するアルカリ水溶液現像可能なレジスト材料ならびにそれを用いたパターン形成方法を提供する。【構成】アルカリ可溶性樹脂,環鎖互変異性を有する化合物ならびに酸前駆体からなるレジストおよび、それを用いたパターン形成方法。【効果】半導体デバイス,光ディスク,磁気ヘッド等の製作に必要な微細パターン形成を効率よく、かつ低コストで行える。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性高分子,環鎖互変異性を有する化合物、及び放射線の照射により酸を発生する酸前駆体を含むことを特徴とする放射線感応性組成物。

IPC (5)：

G03F 7/038 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F