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J-GLOBAL ID：200903012842285023

芳香族ポリチアゾール薄膜及びその製造方法

Inventor： 服部 達哉 ,  加川 和宏 ,  今井 淑夫 ,  柿本 雅明 ,  弓場 智之
Applicant, Patent owner： 本田技研工業株式会社
Agent (1)： 高石 橘馬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993076307
Publication number (International publication number)：1994263874
Application date： Mar. 10, 1993
Publication date： Sep. 20, 1994
Summary：

【要約】【目的】 耐熱性、剛直性に優れる芳香族ポリチアゾール薄膜及びその製造方法を提供する。【構成】 疎水基を有する芳香族ポリチアゾール前駆物質をラングミュア-ブロジェット法により基板上に累積し、加熱することによりチアゾール閉環反応を起こして製造される芳香族ポリチアゾール薄膜。

Claim (excerpt)：

芳香族ポリチアゾールからなるラングミュア-ブロジェット薄膜であって、(a)下記式【化1】(ただし、Ar1 、Ar2 は芳香族残基であり、Rは無置換又は置換のアルキレン基であり、X1 、X2 は疎水基を有する化合物であり、n=4〜1000である。)で表される芳香族ポリチアゾール前駆物質をラングミュア-ブロジェット法により基板上に累積し、(b)加熱することにより前記前駆物質のチアゾール閉環反応を起こして製造されることを特徴とする芳香族ポリチアゾール薄膜。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-097138
  
• 特開平3-091724
  
• 特開平3-154036
  
• 特開平4-304435