シミ欠陥検出方法およびシミ欠陥検出装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：特許業務法人樹之下知的財産事務所 , 木下實三 , 中山寛二 , 石崎剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007004611
Publication number (International publication number)：2008170325
Application date： Jan. 12, 2007
Publication date： Jul. 24, 2008
Summary：

【課題】シミ欠陥を高精度に検出することができるシミ欠陥検出方法およびシミ欠陥検出装置を提供すること。【解決手段】シミ欠陥強調フィルタを用いてシミ欠陥候補を検出し、シミ欠陥輝度フィルタを用いてシミ欠陥候補の輝度情報(コントラスト)を算出し、算出したシミ欠陥候補の位置情報および輝度情報に基づいてシミ欠陥を判定することで、シミ欠陥の検出精度が向上できる。そして、シミ欠陥検出処理工程(ステップS4)では、対象画素と輝度比較画素との輝度差の最小値を対象画素のシミ欠陥強調値とし、シミ欠陥評価処理工程(ステップS5)では、対象画素と輝度比較画素との輝度比の最大値を対象画素のシミ欠陥輝度値とすることで、シミ欠陥検出精度の向上を促進できるとともに、検査員の目視によるシミ欠陥検出と同様の検出結果を得ることができ、検査対象の表示品質を確保することができる。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

撮像した画像の各画素に対してシミ欠陥強調フィルタをかけてシミ欠陥を強調するシミ欠陥強調処理工程と、前記シミ欠陥強調処理工程で得られた各画素のシミ欠陥強調値に基づいてシミ欠陥候補の画素を抽出して位置情報を取得する位置情報取得工程と、前記撮像した画像の各画素に対してシミ欠陥輝度フィルタをかけてシミ欠陥候補の輝度情報を取得するシミ欠陥評価工程と、前記位置情報取得工程およびシミ欠陥評価工程で取得したシミ欠陥候補の位置情報および輝度情報に基づいてシミ欠陥を判定するシミ欠陥判定工程とを有し、前記シミ欠陥強調処理工程は、前記画像において選択された対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された各輝度比較画素から任意に選択した輝度比較画素の輝度値と、前記対象画素の輝度値と、の差に基づいて算出した輝度差の値の絶対値が最小のものを対象画素のシミ欠陥強調値とするシミ欠陥強調フィルタを用いてシミ欠陥候補を強調し、前記シミ欠陥評価工程は、前記画像において選択された対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された各輝度比較画素から任意に選択した輝度比較画素の輝度値と、前記対象画素の輝度値と、の比に基づいて算出した輝度比の値の絶対値が最大のものを対象画素のシミ欠陥輝度値とするシミ欠陥輝度フィルタを用いてシミ欠陥候補の輝度情報を算出することを特徴とするシミ欠陥検出方法。

IPC (4)：

G01N 21/88 , G06T 1/00 , G06T 5/20 , G01N 21/956

FI (4)：

G01N21/88 J , G06T1/00 300 , G06T5/20 A , G01N21/956 Z

F-Term (26)：

2G051AA90 , 2G051AB02 , 2G051AC21 , 2G051CA04 , 2G051CB02 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA16 , 2G051EB01 , 2G051EC03 , 2G051ED04 , 2G051ED14 , 2G051ED15 , 2G051ED23 , 2G086EE10 , 5B057BA02 , 5B057BA17 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CC02 , 5B057CE03 , 5B057CE06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

シミ欠陥の検出方法及びその検出装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-377916 Applicant：セイコーエプソン株式会社

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