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J-GLOBAL ID：200903012876840212

ポリジエンの気相製造

Inventor： カン,ケビン ジョーゼフ ,  アペセツェ,マリア アンジェリカ ,  ムーアハウス,ジョン ヘンリー ,  ムルガナンダム,ナタラジャン ,  スミス,グレゴリー ジョージ ,  ウィリアムズ,ゲアリー ハリー
Applicant, Patent owner： ユニオン カーバイド ケミカルズ アンド プラスティックス テクノロジー コーポレイション
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996506752
Publication number (International publication number)：1998503799
Application date： Aug. 02, 1995
Publication date： Apr. 07, 1998
Summary：

【要約】気相反応装置において、ブタジエン又はイソプレンモノマー及び随意に不活性ガスの流れを重合域中に希土類金属触媒の存在においてかつ不活性粒状物質の存在において、重合域内の温度を該重合域中に存在するモノマーの露点よりも低く保ちながら連続に導入することによりポリブタジエン又はポリイソプレンを製造する方法。

Claim (excerpt)：

ポリブタジエン又はポリイソプレンを、重合域を有するガス流動重合容器において重合反応条件下で製造する方法であって、下記: (i)ブタジエン又はイソプレンモノマーを、成長中のポリマー粒子の床を収容する該重合域中に不活性粒状物質及び随意に少なくとも一種の不活性ガスの存在において導入し; (ii)セリウム、ランタン、プラセオジム、ガドリニウム、ネオジム又はこれらの混合物のカルボキシレート、アルコラート、アセチルアセトネート、ハライド又はアルキル誘導体を含む希土類金属成分、助触媒及び随意にプロモーターを含有する重合触媒を該重合域中に連続に又は間欠に導入し; (iii)ポリブタジエン又はポリイソプレン生成物を該重合域から連続に又は間欠に抜き出し;及び (iv)未反応のブタジエン又はイソプレン該重合域から抜き出し、該ブタジエン又はイソプレン及び存在する場合には該不活性ガスを圧縮し及び冷却し、その間該重合域内の温度を該重合域中に存在するモノマーの露点よりも低く保つことを含む方法。

IPC (3)：

C08F 2/34 ,  C08F 4/54 ,  C08F 36/04

FI (3)：

C08F 2/34 ,  C08F 4/54 ,  C08F 36/04