Pat

J-GLOBAL ID：200903012921839069

電子ビーム励起プラズマ成膜装置

Inventor： 東海 正國 ,  龍治 真 ,  伴 雅人
Applicant, Patent owner： 川崎重工業株式会社
Agent (1)： 西教 圭一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994146806
Publication number (International publication number)：1996027577
Application date： Jun. 28, 1994
Publication date： Jan. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 原料ガスの種類が変化したり、混合ガスを用いる場合でも、成膜速度の低下を防ぎ、成膜組成の均質化を図ることができる電子ビーム励起プラズマ成膜装置を提供する。【構成】 電子ビーム励起プラズマ成膜装置1は、高いエネルギーを持つ電子ビームを発生する電子ビーム発生装置2aと、低いエネルギーを持つ電子ビームを発生する電子ビーム発生装置2bと、電子ビーム励起によってプラズマを発生するプラズマ反応装置3とを備える。高いエネルギーの電子ビームが入射すると、電離または解離に高い活性化エネルギーを必要とするガス分子から成るプラズマPBaを効率良く生成する。低いエネルギーの電子ビームが入射すると、低い活性化エネルギーのガス分子から成るプラズマPBbを効率良く生成する。各プラズマPBa,PBbは、試料S上で化学的気相成長を行って、多元素薄膜を成膜する。

Claim (excerpt)：

電子ビームによって励起されるプラズマを利用して、試料上で化学的気相成長を行う電子ビーム励起プラズマ成膜装置において、エネルギーが相異なる複数の電子ビームを発生するための複数の電子ビーム発生手段を備えることを特徴とする電子ビーム励起プラズマ成膜装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭62-204520
  
• プラズマ生成用陰極
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-342997   Applicant：理化学研究所

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-204520
  
• 特開昭62-204520
  
• プラズマ生成用陰極
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-342997   Applicant：理化学研究所