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J-GLOBAL ID：200903012924360252

光波干渉装置の被検体ポジショニング装置

Inventor： 植木 伸明
Applicant, Patent owner： 富士写真光機株式会社
Agent (1)： 川野 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997095210
Publication number (International publication number)：1998274505
Application date： Mar. 28, 1997
Publication date： Oct. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】 可干渉距離の短い光を用いた光波干渉装置において、所定のフィルタを光路内に挿入配置することにより、被検面を干渉可能範囲内の最適位置にポジショニングするのに要する操作時間を大幅に短縮する。【解決手段】 ポジショニングの際、ビームスプリッタ3と撮像装置6の撮像面6aとの間の光路内に、干渉フィルタ部および光減衰フィルタ部を有するフィルタ7を挿入配置し、高速回転させる。そして、まず、干渉フィルタ部の透過光による干渉縞により、干渉可能範囲L′内へのポジショニングを行い、次に、光減衰フィルタの透過光による干渉縞により、干渉可能範囲L内へのポジショニングおよび最適位置へのポジショニングを行う。

Claim (excerpt)：

可干渉距離の短い光源からの光を2系に分割し、一方を被検体の被検面上に、他方を参照面上に照射し、該被検面からの被検光と該参照面からの参照光の干渉により生じる干渉縞を観察し、該観察結果に基づき該被検面の表面形状を測定する光波干渉装置において、前記被検面の光軸方向の位置決めを行う被検体ポジショニング装置であって、前記光源と前記光の分割位置との間または該分割位置と前記干渉縞の形成位置との間の光路内に、干渉フィルタ部および光減衰フィルタ部を有するフィルタが挿入配置されてなることを特徴とする光波干渉装置の被検体ポジショニング装置。

IPC (2)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/24

FI (2)：

G01B 9/02 ,  G01B 11/24 D

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 透明薄板測定用干渉計
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-196072   Applicant：富士写真光機株式会社
• 特開昭59-111118