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J-GLOBAL ID：200903012952722143

浴水循環装置

Inventor： 石田 裕之 ,  根岸 公一
Applicant, Patent owner： 株式会社ブリヂストン
Agent (1)： 鈴木 悦郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997191938
Publication number (International publication number)：1999019656
Application date： Jul. 01, 1997
Publication date： Jan. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は殺菌力を向上した浴水循環装置に関するものである。【解決手段】少なくとも、浴水の取水口、浄化筒、ポンプ、オゾン殺菌装置、浴水の吐出口を備えた浴水循環装置において、オゾン殺菌装置部を含む当該装置内を浴水が循環する閉回路が形成されるようにし、好ましくは、循環経路内に攪拌手段を有する装置である。1..浴槽、2..浴水循環装置本体、3..浴水循環ポンプ、4..生物浄化を主とする浄化筒、5..オゾンガス発生装置、5.1..エア-ポンプ、5.2..電磁弁、5.3..オゾン発生装置、5.4..逆止弁、5.5..オゾンガス注入用エジェクタ-、6..オゾン水攪拌手段、7..三方弁、8..浴水取水口、9..浴水吐出口。

Claim (excerpt)：

少なくとも、浴水の取水口、浄化筒、ポンプ、オゾン殺菌装置、浴水の吐出口を備えた浴水循環装置において、オゾン殺菌装置部を含む当該装置内を浴水が循環する閉回路が形成されるようにしたことを特徴とする浴水循環装置。

IPC (10)：

C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/50 ,  A47K 3/00 ,  B01D 35/027 ,  C02F 1/78

FI (10)：

C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 L ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 A ,  C02F 1/50 550 H ,  C02F 1/50 560 H ,  C02F 1/50 560 Z ,  A47K 3/00 K ,  C02F 1/78 ,  B01D 35/02 J