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J-GLOBAL ID：200903012958007020

レジスト組成物

Inventor： 松野 修吾 ,  杉本 達也 ,  阿部 信紀 ,  田中 秀行
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994301558
Publication number (International publication number)：1996137107
Application date： Nov. 10, 1994
Publication date： May. 31, 1996
Summary：

【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 1-アダマンチル基を導入したビニルフェノール、ビニルフェノール単位および酸不安定性基を導入したメタクリレート単位を有する重合体と活性化放射線の照射により酸を発生する放射線感応性成分を含むことを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式(1)、(2)および(3)【化1】【化2】【化3】(式(1)〜(3)中、R1〜R3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4の置換可アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、R4、R5はそれぞれ独立して水素原子、直鎖、分岐または環状の炭素数1〜8の置換可アルキル基、置換可アルケニル基、置換可アリール基であり、Admは1-アダマンチル基、R6は酸不安定性基である。各式中のk、m、nは各構成単位の割合を表し、k+m+n=1のとき、0.05≦k≦0.95、0.1≦m≦0.95、0.05≦n≦0.6である。)で表される構造単位を含有する重合体と活性化放射線に照射されると酸を生成する放射線感応性成分とを含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027