チオフェン誘導体とその重合体並びにその製造法

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：西澤利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994201134
Publication number (International publication number)：1996059651
Application date： Aug. 25, 1994
Publication date： Mar. 05, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】光応答性、および電気応答性を有し、光記録材料、光-電気応答素子等に好適なチオフェン誘導体ならびにその重合体を提供する。【構成】次式で表わされるチオフェン誘導体またはその光異性化体とそれらの重合体。(n,mは、各々、独立して0以上の整数、R1 は、水素原子、ハロゲン原子、またはトリアルキルシリル基、R2 はエチレン結合とともに環状構造を形成する置換基を有してもよいアルキレン基または-COOCO-基、もしくは各々シアノ基を示し、R3 ,R4 およびR5 は、各々、独立して水素原子またはアルキル基を示す)

Claim (excerpt)：

次式(I)で表わされるチオフェン誘導体。【化1】(n,mは、各々、独立して0以上の整数、R1 は、水素原子、ハロゲン原子、またはトリアルキルシリル基、R2 はエチレン結合とともに環状構造を形成する置換基を有してもよいアルキレン基または-COOCO-基、もしくは各々シアノ基を示し、R3 ,R4 およびR5 は、各々、独立して水素原子またはアルキル基を示す)

IPC (6)：

C07D333/28 , C07D333/24 , C07D495/04 101 , C07F 7/08 , C08G 61/12 NLJ , C09K 9/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

特開平4-134061
フォトクロミック光記録材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-040858 Applicant：入江正浩, 三菱化学株式会社
特開平3-261943

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