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J-GLOBAL ID：200903012974178889

耐光性に優れたポリアミド樹脂組成物

Inventor： 柏木 義一 ,  水尾 隆之 ,  小堀 勝男 ,  石龍 亨
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 大谷 保
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991156886
Publication number (International publication number)：1993001223
Application date： Jun. 27, 1991
Publication date： Jan. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】 卓越した耐光性を長期にわたり維持できるポリアミド樹脂組成物を得ること。【構成】 ポリアミド樹脂に、ベンゾトリアゾール系化合物の紫外線吸収剤,ヒンダードアミン系化合物のラジカル捕捉剤,及びヒンダードフェノール系化合物の酸化防止剤を配合してなる耐光性に優れたポリアミド樹脂組成物

Claim (excerpt)：

ポリアミド樹脂100重量部に、(A)ベンゾトリアゾール系化合物の紫外線吸収剤を0.1重量部以上,(B)ヒンダードアミン系化合物のラジカル捕捉剤を0.1重量部以上及び(C)ヒンダードフェノール系化合物の酸化防止剤を0.2重量部以上配合してなる耐光性に優れたポリアミド樹脂組成物。

IPC (5)：

C08L 77/00 LQY ,  C08K 5/13 KKW ,  C08K 5/17 KKX ,  C08K 5/3435 KKZ ,  C08K 5/3475 KKZ