光反応性有害物除去材

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996044448
Publication number (International publication number)：1997234375
Application date： Mar. 01, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：

【要約】【課題】酸化チタン等の光反応性半導体を利用した、悪臭等の有害物の除去能に優れると共に、光反応性半導体の保持性に優れ、かつ簡便に製造することができる光反応性有害物除去材を提供する。【解決手段】支持体上に、少なくとも光反応性半導体、コロイダルシリカ、及び熱可塑性高分子エマルジョンよりなる光反応性有害物除去層を設けてなる光反応性有害物除去材、また少なくとも光反応性半導体及びコロイダルシリカ複合熱可塑性高分子エマルジョンよりなる光反応性有害物除去層を支持体上に設けてなる光反応性有害物除去材、また少なくとも光反応性半導体、担体、及びコロイダルシリカ複合熱可塑性高分子エマルジョンよりなる光反応性有害物除去層を支持体上に設けてなる光反応性有害物除去材。

Claim (excerpt)：

支持体上に、少なくとも光反応性半導体、コロイダルシリカ、及び熱可塑性高分子エマルジョンよりなる光反応性有害物除去層を設けてなる光反応性有害物除去材。

IPC (4)：

B01J 35/02 , B01D 53/86 , A61L 9/00 , A61L 9/18

FI (4)：

B01J 35/02 J , A61L 9/00 C , A61L 9/18 , B01D 53/36 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

光触媒体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-165836 Applicant：石原産業株式会社, 藤嶋昭, 橋本和仁
特開昭59-071316
特開昭60-127371

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