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J-GLOBAL ID：200903013018851490

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの製造法

Inventor： 布村 昌隆 ,  橋本 通晰
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992132961
Publication number (International publication number)：1993323602
Application date： May. 26, 1992
Publication date： Dec. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高い解像度を有し、微細加工用に適したレジストパターンを得ることができ、半導体デバイス製造に特に有用であるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂および1,2-キノンジアジド化合物を含む組成物に一般式〔I〕で表される化合物を配合してなるポジ型ホトレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法。【化1】(式中nは1〜25の整数である)

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂および1,2-キノンジアジド化合物を含む組成物に、一般式〔I〕で表される化合物を配合してなるポジ型ホトレジスト組成物。【化1】(式中nは1〜25の整数である)

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027