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J-GLOBAL ID：200903013021624977

ケミカルマイクロリアクタとその製造のための方法

Inventor： ブロイアー ノルベルト ,  マイヤー ハインリヒ
Applicant, Patent owner： アトーテヒ ドイッチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Agent (1)： 伊藤 武久 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998536162
Publication number (International publication number)：2001524019
Application date： Feb. 17, 1998
Publication date： Nov. 27, 2001
Summary：

【要約】化学合成のためのケミカルマイクロリアクタとその製造法は公知であるが、例えば非常に高い製造コストや異なる応用への採用に関する乏しい柔軟性といった欠点を有する。本発明に係るマイクロリアクタと製造方法で、それら欠点は回避される。当該マイクロリアクタは、当該リアクタが少なくとも1枚の平面での流体経路並びに流体のための流入口と流出口を有し、その際、当該流0体経路が互いに対向配置された金属製側壁とこれら側壁の間に延在する別の金属製乃至プラスチック製側壁とによって画定され、上記平面が互いに及び/又は開放した流体経路を密封する閉鎖手段と適切な鑞付け層又は接着層によって結合されていることによって特徴付けられる。製造方法は、電気メッキ技術を用いて製造された個々のリアクタ平面が鑞付け又は接着によって互いに接合されるような方法ステップで特徴付けられている。

Claim (excerpt)：

プラスチック成形法を使用しない、流体経路並びに流体のための導入路と導出路を備えた少なくとも1つのサブストレートを有するケミカルマイクロリアクタのための製造方法にして、a.サブストレート上にある金属表面に、フォトレジスト層又はスクリーン印刷ニス層を用いて流体経路構造を形成して、部分的に上記層によって金属表面を覆うこと;b.上記サブストレートの露出表面から少なくとも部分的に金属を非電着性及び/又は電気化学的に腐食除去すること;c.フォトレジスト層又はスクリーン印刷ニス層の全面的な除去;d.接着層及び/又は鑞付け層の形成;e.上記サブストレートと上記流体経路を閉じる閉鎖セグメントとの重ね合わせと、接着及び/又は鑞付けによるサブストレートと閉鎖セグメントの相互連結の各方法ステップを備える製造方法。

FI (2)：

B01J 19/00 Z ,  B01J 19/00 K

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 改質器、改質システム、及び燃料電池システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-261415   Applicant：株式会社東芝
• 微小部品シート構造体
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平8-506487   Applicant：バッテル・メモリアル・インスティチュート
• 深紫外線露出用の改良形乾式ホトリトグラフィプロセス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-051646   Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

Cited by examiner (2)

• 改質器、改質システム、及び燃料電池システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-261415   Applicant：株式会社東芝
• 微小部品シート構造体
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平8-506487   Applicant：バッテル・メモリアル・インスティチュート