偏光性イメージング装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997091106
Publication number (International publication number)：1998281876
Application date： Apr. 09, 1997
Publication date： Oct. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】試料のうち所定の領域のみについて照射光(励起光)の照射に伴って発生した被測定光(蛍光、ラマン散乱光)の偏光性を2次元的に測定して、試料中の分子の状態を高精度に検出する。【解決手段】パルスレーザ光源10から出力され偏光子11および1/2波長板12を経たパルス励起光は、s偏光の直線偏光とされ、プリズム30に入射し、励起側カバーガラス42と試料40との境界面で全反射する。試料40中に生じたエバネセント波により励起されて発生した蛍光は、対物レンズ50により集光され、偏光ビームスプリッタ53によりp偏光およびs偏光それぞれの直線偏光成分に分岐されて、イメージインテンシファイア60および61それぞれにより撮像される。画像演算部63により、蛍光異方性比の2次元画像は、撮像された像に基づいて偏光応答補正がなされて求められる。

Claim (excerpt)：

直線偏光の照射光を出力する光源部と、試料に接して配される透明部材と、前記照射光を前記透明部材の側から前記透明部材と前記試料との境界面へ第1の入射面に沿ってs偏光入射させて前記境界面で全反射させ、前記試料をエバネセント照射する照射光学系と、前記境界面に垂直な入射光軸を有し、エバネセント照射された前記試料から発生した被測定光を入力し、前記第1の入射面と平行な第1の偏光方位およびこれに直交する第2の偏光方位それぞれの直線偏光成分に分岐して、互いに異なる第1および第2の結像面それぞれに結像する受光光学系と、前記第1の結像面に結像された前記被測定光の前記第1の偏光方位の直線偏光成分を撮像する第1の撮像手段と、前記第2の結像面に結像された前記被測定光の前記第2の偏光方位の直線偏光成分を撮像する第2の撮像手段と、前記第1および前記第2の撮像手段それぞれにより撮像された前記被測定光の前記第1および前記第2の偏光方位それぞれの直線偏光成分の画像に基づいて、前記被測定光の偏光性の2次元画像を求める画像演算手段と、を備えることを特徴とする偏光性イメージング装置。

IPC (3)：

G01J 4/00 , G01N 21/21 , G01N 21/27

FI (3)：

G01J 4/00 , G01N 21/21 Z , G01N 21/27 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

非線形光学定数評価方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-314303 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-127004

Cited by examiner (3)

非線形光学定数評価方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-314303 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-127004
特開平4-127004

Return to Previous Page