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J-GLOBAL ID：200903013056513710

マスクパターンデータ検査装置、及びマスクパターンデータ最適設計装置

Inventor： 茂庭 明美 ,  寺澤 恒男 ,  岡崎 信次 ,  長谷川 昇雄 ,  田中 稔彦 ,  茂庭 昌弘
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995140302
Publication number (International publication number)：1996334888
Application date： Jun. 07, 1995
Publication date： Dec. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】所望するデバイス構造を得るためのマスクパターンの検図、及びマスクパターンの最適設計方法および装置を提供する。【構成】設計パターンデータをマスクパターンファイルf2から処理手段s12で読み込み,投影像計算,その後の加工プロセスのシミュレーション等を行ってデバイスの加工後平面形状を処理手段1で予測し、処理手段s2で、パターンの許容面積範囲,パターンの許容寸法範囲,パターン間の許容距離範囲、及び層間のパターンの合わせ余裕等で表現された所望するデバイスの構造のデータからなるデバイス構造ルールファイル1のルールを用いてルール違反個所を抽出し、ルール違反個所の表示を処理手段s3で行う。

Claim (excerpt)：

所望のデバイスを得るために設計されたマスクパターンデータの検査において、設計マスクパターンデータを読み込む手段と、前記マスクパターンから得られるデバイス構造の予測手段と、所望するデバイス構造のルールを読み込む手段と、前記デバイス構造が前記デバイス構造ルールを満たしているか否かを検査する手段と、前記検査結果の表示手段とを備えたことを特徴とするマスクパターンデータ検査装置。