近接場光記録媒体及び近接場光記録方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：重野剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000065344
Publication number (International publication number)：2000321714
Application date： Mar. 09, 2000
Publication date： Nov. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】より一層の高密度記録が可能で、かつ光記録媒体としての実用上充分な耐久性を備えた光記録媒体、および光記録方法を提供する。【解決手段】光源の波長よりも微小なサイズのビームスポット径を有するエバネッセント光を用いた記録・再生・消去が可能な近接場光記録媒体。該光記録媒体の記録層は、ガラス転移点55°C以上のフォトクロミック材料を主体とする、アモルファス状の層よりなる。この近接場光記録媒体を用いる近接場光記録方法。

Claim (excerpt)：

光源の波長よりも微小なサイズのビームスポット径を有するエバネッセント光を用いた記録・再生・消去が可能な近接場光記録媒体において、該光記録媒体の記録層が、ガラス転移点55°C以上のフォトクロミック材料を主体とする、アモルファス状の層よりなることを特徴とする近接場光記録媒体。

IPC (5)：

G03C 1/73 503 , G03C 1/00 531 , G03C 5/08 351 , G11B 7/0045 , G11B 7/24 516

FI (5)：

G03C 1/73 503 , G03C 1/00 531 , G03C 5/08 351 , G11B 7/0045 Z , G11B 7/24 516

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

フォトクロミックオルガノポリシロキサンおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-275552 Applicant：東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社, 入江正浩
特開平3-100647
書き換え可能光記録方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-052285 Applicant：入江正浩

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