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J-GLOBAL ID：200903013074138802

基板処理装置の処理液供給ノズル

Inventor： 吉井 弘至 ,  笹田 滋
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996191882
Publication number (International publication number)：1998035791
Application date： Jul. 22, 1996
Publication date： Feb. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 処理液流通路内の処理液を付着残留させることなくほぼ完全に吐出させることにより、処理液のぼた落ちを防止することができる。【解決手段】 先端部7に現像液が流通する処理液流通路7aを有し、この処理液流通路7aに連通した吐出孔7bから基板の表面に現像液を吐出する基板処理装置の処理液供給ノズルにおいて、処理液供給ノズルの先端部7のうち、少なくとも処理液流通路7aの内面に超撥水性層Sを形成しておく。現像液は、処理液流通路7aおよび吐出孔7bを通って吐出されるが、吐出が停止されると処理液流通路7a内の現像液は、そこに付着残留することなく重力によって容易に下方に落下する。

Claim (excerpt)：

先端部に所定の処理液が流通する処理液流通路を有し、この処理液流通路に連通した吐出孔から基板の表面に処理液を吐出する基板処理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記処理液供給ノズルの先端部のうち、少なくとも前記処理液流通路の内面を超撥水性材料で形成したことを特徴とする基板処理装置の処理液供給ノズル。

IPC (6)：

B67D 5/02 ,  B05C 5/00 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (7)：

B67D 5/02 Z ,  B05C 5/00 Z ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C