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J-GLOBAL ID：200903013079116351
微細構造物の製法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993267432
Publication number (International publication number)：1994267929
Application date： Oct. 26, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：
【要約】【目的】 犠牲層を用いて、その上に各種の構造層を被覆することのできる、単純、信頼性のある微細構造物の製法を提供する。【構成】 基板(10)の上に犠牲層(12)を配置し、その上に構造層(14)を被覆、固定する。次に、構造層に穴をあけ、その穴の幾つかをポリマー層で被覆し、被覆していない穴を通して犠牲層を食刻し、ボイド領域を基板にまで延在させる。次にボイド領域に保護ポリマー層で充填し、基板と構造層との間の一時的な柱(24)をつくる。次に犠牲層を湿式食刻するが、前記柱がその間に発生する毛管力に対する支持体となる。その後でこの柱を乾式食刻によって除去する。結果として、基板に固定された、自立型の構造層を有した微細構造物が得られる。
Claim (excerpt)：
微細構造物の製法において、基板を準備する工程と、前記基板の表面に犠牲層を被覆する工程と、前記犠牲層の表面に構造層を被覆し、前記犠牲層が前記基板と構造層との間に位置して、前記構造層が前記基板に固定されるようにする工程と、前記構造層を支持するために、前記構造層から前記基板の方への延在する、少なくとも1つの一時的な柱を形成する工程と、前記犠牲層を除去する工程と、前記一時的な柱を除去する工程とを含むことを特徴とする微細構造物の製法。
IPC (2)：
H01L 21/306
, H01L 21/302
