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J-GLOBAL ID：200903013098482415

高度水処理装置及びその運転方法

Inventor： 上島 光雄
Applicant, Patent owner： 日本酸素株式会社
Agent (1)： 木戸 一彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000028971
Publication number (International publication number)：2001219185
Application date： Feb. 07, 2000
Publication date： Aug. 14, 2001
Summary：

【要約】【課題】 酸素を原料としてオゾン発生装置で発生させたオゾンをオゾン処理槽に供給してオゾン処理効率の向上を図るとともに、オゾン排ガスを効率よく利用して活性汚泥処理効率の向上も図ることができる高度水処理装置及びその運転方法を提供する。【解決手段】 酸素活性汚泥処理槽11の後段に、酸素を原料としてオゾン発生装置15で発生させたオゾンを使用するオゾン処理槽13を設けた高度水処理装置において、オゾン処理槽13から排出されるオゾン排ガス中の残存オゾンを酸素に分解する排オゾン処理装置16と、該排オゾン処理装置16から導出したガスを前記酸素活性汚泥処理槽11に供給する経路36とを設ける。

Claim (excerpt)：

酸素活性汚泥処理槽の後段に、酸素を原料としてオゾン発生装置で発生させたオゾンを使用するオゾン処理槽を設けた高度水処理装置において、前記オゾン処理槽から排出されるオゾン排ガス中の残存オゾンを酸素に分解する排オゾン処理装置と、該排オゾン処理装置から導出したガスを前記酸素活性汚泥処理槽に供給する経路とを設けたことを特徴とする高度水処理装置。

IPC (10)：

C02F 3/12 ,  C01B 13/10 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/78

FI (12)：

C02F 3/12 A ,  C02F 3/12 B ,  C02F 3/12 H ,  C01B 13/10 D ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 P ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 A ,  C02F 1/50 550 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 H ,  C02F 1/78

F-Term (26)：

4D028AA03 ,  4D028BC14 ,  4D028BC15 ,  4D028BC18 ,  4D028BC24 ,  4D028BC26 ,  4D028BC28 ,  4D028BD07 ,  4D028BD10 ,  4D028BD12 ,  4D028BD16 ,  4D028CA10 ,  4D028CB01 ,  4D028CC09 ,  4D028CD08 ,  4D050AA12 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BD02 ,  4D050BD08 ,  4D050CA16 ,  4D050CA17 ,  4G042CE04