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J-GLOBAL ID：200903013100344874

チャープトファイバグレーティング

Inventor： 山内 良三 ,  和田 朗
Applicant, Patent owner： 株式会社フジクラ
Agent (1)： 志賀 正武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995008458
Publication number (International publication number)：1996201609
Application date： Jan. 23, 1995
Publication date： Aug. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】 反射光の反射波長域が1nmから20nm程度までの広い反射特性を持つチャープトファイバグレーティングを容易に製造できるようにする。【構成】 光ファイバのファイバ径、コア径、コア屈折率などの導波構造を光ファイバの長さ方向に局所的に連続的に変化させておき、この部分に従来のグレーティング周期が一定のグレーティングを干渉法やホトマスク法によって形成する。

Claim (excerpt)：

光ファイバの長さ方向に導波構造の連続的変化を形成し、この変化部分にグレーティングを形成したことを特徴とするチャープトファイバグレーティング。

IPC (2)：

G02B 5/18 ,  G02B 6/00 301