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J-GLOBAL ID：200903013106611556

薄膜太陽電池およびその製造方法

Inventor： 長野 尉絵 ,  谷口 浩 ,  三宮 仁
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 岡田 和秀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998005543
Publication number (International publication number)：1999191632
Application date： Jan. 14, 1998
Publication date： Jul. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】光の有効利用が可能な薄膜太陽電池を高温処理を用いず、低コストで製造する。【解決手段】透光性絶縁基板4上に、凹凸10を有する透光性樹脂層6を形成したのち、透光性樹脂層6上に、透明導電膜7、非晶質導体層8、および裏面電極層9を順次積層形成してなる薄膜太陽電池の製造方法であって、転写凹凸22が形成された形状転写体21の転写凹凸形成面を透光性樹脂フィルム20に当接させて凹凸10を形成したのち、透光性樹脂フィルム20を透光性絶縁基板4に貼着する。

Claim (excerpt)：

透光性絶縁基板上に、凹凸を有する透光性樹脂層を形成したのち、この透光性樹脂層上に、透明導電膜、非晶質半導体層、および裏面電極層を順次積層形成してなる薄膜太陽電池の製造方法であって、転写凹凸が形成された形状転写体を用意し、この形状転写体の転写凹凸形成面を透光性樹脂フィルムに当接させて、透光性樹脂フィルムに前記凹凸を形成する工程と、前記凹凸が形成された透光性樹脂フィルムを前記透光性絶縁基板上に貼着して前記透光性樹脂層を形成する工程とを含むことを特徴する薄膜太陽電池の製造方法。