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J-GLOBAL ID:200903013111174474

樹脂基板の表面改質装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西川 惠清 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000166859
Publication number (International publication number):2001342269
Application date: Jun. 02, 2000
Publication date: Dec. 11, 2001
Summary:
【要約】【課題】 高い改質効果を得ることができるものとする。【解決手段】 表面改質すべき基板1を側面に保持するとともに高周波が印加される基板ホルダー2と、この基板ホルダー2の上記側面に対向する対向電極板3とをチャンバー10内に配する。高周波放電が基板ホルダー2とチャンバー10壁面との間ではなく、基板ホルダー2とこれに対向する対向電極板3との間で生じさせることでプラズマ発生領域を限定し、基板1付近でのプラズマ密度を高める。
Claim (excerpt):
表面改質すべき基板を側面に保持するとともに高周波が印加される基板ホルダーと、この基板ホルダーの上記側面に対向する対向電極板とをチャンバー内に配していることを特徴とする樹脂基板の表面改質装置。
IPC (4):
C08J 7/00 302 ,  B01J 19/08 ,  C23C 14/02 ,  H05H 1/46
FI (6):
C08J 7/00 302 ,  B01J 19/08 E ,  C23C 14/02 Z ,  H05H 1/46 M ,  H05H 1/46 L ,  H05H 1/46 C
F-Term (33):
4F073AA01 ,  4F073BB02 ,  4F073BB09 ,  4F073CA01 ,  4F073CA04 ,  4F073CA05 ,  4F073CA06 ,  4F073CA07 ,  4F073CA08 ,  4F073DA01 ,  4G075AA30 ,  4G075AA42 ,  4G075BA05 ,  4G075BC02 ,  4G075BD14 ,  4G075CA03 ,  4G075CA15 ,  4G075CA25 ,  4G075CA42 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC01 ,  4G075EC21 ,  4G075EE36 ,  4G075FB04 ,  4G075FC15 ,  4G075FC20 ,  4K029AA11 ,  4K029CA05 ,  4K029FA05

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