Pat
J-GLOBAL ID：200903013115103636
同軸型電磁加速式溶射装置
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
梶 良之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993353864
Publication number (International publication number)：1995201497
Application date： Dec. 29, 1993
Publication date： Aug. 04, 1995
Summary：
【要約】【目的】 電極と電極間の絶縁状態を空間により確実に確保して、材料に不純物が混入したり、絶縁破壊のない同軸型電磁加速式溶射装置を提供せんとするものである。【構成】 本発明の同軸型電磁加速式溶射装置1は、棒状の中心電極2と、この中心電極と同軸で、かつ、その外周を囲繞するように筒状電極3を配置し、一端側に溶射材の供給口3aを、又、他端側に溶射口7を設け、前記両電極2、3により形成される電極空間S1、S2を溶射材の供給側3aから溶射口7に向かって連続に狭小(S1>S2)となるように形成せしめたものである。
Claim (excerpt)：
棒状の中心電極と、この中心電極と同軸で、かつ、その外周を囲繞するように筒状電極を配置し、一端側に溶射材の供給口を、又、他端側に溶射口を設け、前記両電極により形成される電極空間を溶射材の供給側から溶射口に向かって連続に狭小となるように形成せしめたことを特徴とする同軸型電磁加速溶射装置。
IPC (2)：
Return to Previous Page
