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J-GLOBAL ID：200903013166058015

露光装置及び露光方法

Inventor： 北野 博 ,  伊藤 真信
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 前田 均 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999210913
Publication number (International publication number)：2001044099
Application date： Jul. 26, 1999
Publication date： Feb. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 基板上に形成されるパターンの連続性や周期性の悪化を防止し、高精度、高品質なマイクロデバイスを製造する。【解決手段】 光源1からの光束をマスク13に照射して基板15の表面の隣接する領域にマスクのパターンの像を継ぎ部にて互いの一部が重複するように順次投影露光する。光束に対して進退方向に移動可能に設けられた遮光部材10と、遮光部材の移動に関する移動情報を検出する検出装置21とを備えている。制御装置9は、先の露光時に前記継ぎ部の光量が連続的に変化するように遮光部材10を移動するとともに、先の露光時に検出装置21により検出された移動情報に基づき、後の露光時に前記継ぎ部の光量が全体として一様となるように遮光部材10の移動を制御する。

Claim (excerpt)：

光源からの光束をマスクに照射して基板の表面の隣接する領域に前記マスクのパターンの像を継ぎ部にて互いの一部が重複するように順次投影露光する装置において、前記光束に対して進退方向に移動可能に設けられた遮光部材と、前記遮光部材の移動に関する移動情報を検出する検出装置と、先の露光時に前記継ぎ部の光量が連続的に変化するように前記遮光部材を移動するとともに、前記先の露光時に前記検出装置により検出された前記移動情報に基づき、後の露光時に前記継ぎ部の光量が全体として一様となるように前記遮光部材の移動を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/23

FI (3)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/23 H ,  H01L 21/30 516 D

F-Term (7)：

5F046BA03 ,  5F046CB05 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DB11 ,  5F046DC02 ,  5F046DD06