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J-GLOBAL ID：200903013195090041
マスクとワークの位置合わせ方法および装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長澤 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995304862
Publication number (International publication number)：1996233529
Application date： Nov. 22, 1995
Publication date： Sep. 13, 1996
Summary：
【要約】【課題】 投影レンズの特性に依存せずに高精度なマスクとワークの位置合わせを行うことができる位置合わせ方法および装置を提供すること。【解決手段】 露光光照射装置1より露光光をマスクMのアライメント・マークに照射し、ワークステージ4に設けられた反射部材4aにマスクMのアライメント・マークを投影して、その投影像を受像・画像処理して、その相対位置を記憶する。次に、露光光照射装置1からの露光光の放出を停止して、ワークステージ4にワークWを載置し、露光光照射装置1もしくはワークアライメント・マーク用部分照明系WA1から非露光光をワークWのアライメント・マークへ照射し、ワークのアライメント・マークを受像・画像処理して、相対位置を検出/記憶する。そして、アライメント・マークの相対位置データを演算して、該両アライメント・マークが重なるようにワークおよび/またはマスクを移動させる。
Claim (excerpt)：
第1の光照射部より露光光をマスクのアライメント・マークに照射し、ワークステージに設けられた反射部材にマスクのアライメント・マークを投影して、該投影像を受像・画像処理して、その相対位置を検出/記憶し、また、第1の光照射部からの露光光の放出を停止して、ワークステージにワークを載置し、上記第1の光照射部もしくは第2の光照射部より非露光光をワークのアライメント・マークへ照射し、ワークのアライメント・マークを受像・画像処理して、相対位置を検出/記憶し、該両アライメント・マークの相対位置データを演算して、該両アライメント・マークが重なるようにワークおよび/またはマスクを移動させることを特徴とするマスクとワークの位置合わせ方法。
IPC (5)：
G01B 11/00
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
, G05B 19/18
, H01L 21/027
G01B 11/00 H
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, G05B 19/18 A
, H01L 21/30 525 D
, H01L 21/30 525 A
