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J-GLOBAL ID：200903013235167875

照明光学系

Inventor： 杉山 吉幸 ,  青木 新一郎 ,  山本 正樹 ,  中西 淑人 ,  佐藤 健夫
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991199318
Publication number (International publication number)：1993040240
Application date： Aug. 08, 1991
Publication date： Feb. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 レーザ光を照明光源に用いた半導体露光装置に使用される照明光学系に関するもので、スペックルによる解像力の低下および照明の不均一性を解決し、スペックルの発生を押え、レチクル面上をより均一に照明すると共に、露光量を検出し適正露光量を制御する照明光学系提供することを目的とする。【構成】 レーザ光源から発せられるビームを用いて複数の光源像を発生させる第1の光源像発生手段と、第1の光源像発生手段からのビームを走査するための2軸の揺動ミラーと、2軸の揺動ミラーにより走査されたビームを用いて複数の光源像を発生させる第2の光源像発生手段と、第2の光源像発生手段から出射したビームを重ね合わせた状態でレチクル面を照射するコンデンサレンズと、パルス化されたレーザ光による露光量を積算して検出する露光量検出手段を第2の光源像発生手段の直後に配置し、露光量検出手段により検出された露光量を一定に制御するレーザ出力制御回路によって構成される。

Claim (excerpt)：

物体を照明するためのパルス化されたレーザ光を発する光源と、前記光源から発せられるビームを用いて複数の光源像を発生させる第1の光源像発生手段と、前記第1の光源像発生手段からのビームを走査する走査手段と、前記走査手段により走査されるビームを用いて複数の光源像を発生させる第2の光源像発生手段と、前記第2の光源像発生手段からのビームを重ね合わせた状態で被照射面を照射する照射手段を具備したことを特徴とする照明光学系。

IPC (3)：

G02B 27/00 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/101