Pat

J-GLOBAL ID：200903013242232704

回路基板形成用アルカリ現像型液状フォトレジスト組成物

Inventor： 千葉 秀貴 ,  大野 悦子 ,  嶋田 篤文 ,  遠藤 昌之
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993066115
Publication number (International publication number)：1994256684
Application date： Mar. 02, 1993
Publication date： Sep. 13, 1994
Summary：

【要約】【構成】(A)(a)不飽和カルボン酸と、(b)エポキシ基を有するラジカル重合性化合物と、(c)他のラジカル重合性化合物との、共重合体(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物および、(C)光重合開始剤を含有することを特徴とする回路基板形成用アルカリ現像型液状フォトレジスト組成物。【効果】 電気めっき用、無電解めっき用、層間絶縁膜用、回路保護膜用などに好適な回路基板形成用アルカリ現像型液状フォトレジスト組成物を提供する。

Claim (excerpt)：

(A)(a)不飽和カルボン酸と、(b)エポキシ基を有するラジカル重合性化合物と、(c)他のラジカル重合性化合物との、共重合体(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物および、(C)光重合開始剤、を含有することを特徴とする回路基板形成用アルカリ現像型液状フォトレジスト組成物。

IPC (7)：

C09D 4/00 PDU ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/038 503 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/28 ,  H05K 3/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-172301
  
• 特開平1-203424
  
• 特開平3-100185