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J-GLOBAL ID：200903013254270938

IgE産生抑制剤

Inventor： 金 英寿 ,  井上 俊夫
Applicant, Patent owner： 小林製薬株式会社 ,  小川香料株式会社
Agent (1)： 三枝 英二 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002094127
Publication number (International publication number)：2003286182
Application date： Mar. 29, 2002
Publication date： Oct. 07, 2003
Summary：

【要約】【課題】長期的に使用しても安全であり、IgEの産生を抑制する作用を有し、I型アレルギーを病因とする疾患の治療乃至予防に有用であるIgE産生抑制剤。【解決手段】シソ科メンタ(Mentha)属植物の抽出物を含有することを特徴とするIgE産生抑制剤。

Claim (excerpt)：

シソ科メンタ(Mentha)属植物の抽出物を含有することを特徴とするIgE産生抑制剤。

IPC (7)：

A61K 35/78 ,  A23K 1/16 304 ,  A23L 1/30 ,  A61P 11/06 ,  A61P 17/00 ,  A61P 27/16 ,  A61P 37/08

FI (7)：

A61K 35/78 R ,  A23K 1/16 304 C ,  A23L 1/30 B ,  A61P 11/06 ,  A61P 17/00 ,  A61P 27/16 ,  A61P 37/08

F-Term (24)：

2B150AA01 ,  2B150AA05 ,  2B150AA06 ,  2B150AA20 ,  2B150AB20 ,  2B150DD31 ,  2B150DD57 ,  4B018MD66 ,  4B018ME07 ,  4B018MF01 ,  4C088AB38 ,  4C088AC01 ,  4C088AC03 ,  4C088AC04 ,  4C088AC05 ,  4C088AC06 ,  4C088AC13 ,  4C088BA08 ,  4C088CA03 ,  4C088MA52 ,  4C088NA14 ,  4C088ZA34 ,  4C088ZA89 ,  4C088ZB13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 抗炎症、抗かゆみ剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-128694   Applicant：サンスター株式会社, 小川香料株式会社
• 皮膚外用剤および浴用剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-238347   Applicant：一丸ファルコス株式会社
• 特開平1-102027
  
• IgE産生抑制剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-341489   Applicant：株式会社ナリス化粧品
• 特開平1-102027